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半导体UPW系统不仅关注18.2MΩ·cm电阻率,还需综合控制TOC、颗粒、硅、溶解氧及痕量离子。百惠浦提供预处理、双级RO、EDI、UV、抛光、UF及循环管网整体超纯水解决方案。
2026-09-14
GaN氮化镓生产废水成分受清洗、蚀刻、研磨及设备清洗工序影响,可能涉及含氟、含氨、酸碱、金属及有机污染物。百惠浦根据实际水质设计分质收集、物化、生化、膜处理及回用系统。
2026-09-14